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政府 特許法改正法案を決定 立ち入り調査制度創設

法案における主な措置事項

政府はこのほど、「特許法等の一部を改正する法律案」を閣議決定した。特許などの権利によって、紛争が起きても、大切な技術などを十分に守れるよう、産業財産権に関する訴訟制度を改善するとともに、デジタル技術を活用したデザインの保護や、ブランド構築などのため、意匠制度などを強化する。現在開会中である通常国会に提出される予定となっている。

同法案では、特許法の改正により、特許権の侵害の可能性がある場合、中立な技術専門家が、被疑侵害者の工場などに立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度を創設する。

侵害者が販売した数量のうち、特許権者の生産能力などを超えるとして賠償が否定されていた部分については、侵害者にライセンスしたと見なして、損害賠償を請求できることとする。ライセンス料相当額による損害賠償額の算定に当たっては、特許権侵害があったことを前提として交渉した場合に決まるであろう額を考慮できる旨を明記する。損害賠償額算定方法の見直しについては、特許法だけでなく、実用新案法、意匠法、商標法において同旨の改正を実施する。

意匠法の改正では、物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインを新たに意匠法の保護対象とする。

また、長期にわたり、一貫したコンセプトに基づき開発されたデザインを保護する。具体的には、自己の出願した意匠または自己の登録意匠(本意匠)に類似する意匠の登録を認める関連意匠制度について、関連意匠の出願可能期間を「本意匠の登録の公表日まで(8カ月程度)」から、「本意匠の出願日から10年以内まで」に延長する。関連意匠にのみ類似する意匠でも登録を認める。

詳細は、https://www.meti.go.jp/press/2018/03/20190301004/20190301004.htmlを参照。